fa بررسی بهبود بخشی پلاسمایی پلاسمای ترکیبی نیتروژن و اکسیژن بر خواص فوتوکاتالیستی لایه های نازک دی اکسید تیتانیوم سراميک‌هاي زیستی (بیوسرامیک‌ها) Bioceramics پژوهشي Research <div style="text-align: justify;"><span style="font-size:12px;"><span style="font-family:Tahoma;"><span style="font-weight:normal;">لایه های نازک دی اکسید تیتانیوم با ضخامت 280 نانومتر با استفاده از روش کنــــدو پاش مغناطیسی</span><span dir="LTR" style="font-weight:normal;">DC</span><span style="font-weight:normal;"> روی زیر لایه شیشه تهیه شده اند.برای لایه نشانی از هدف فلز تیتانیوم به صورت ورق و گاز ترکیبی آرگون و اکسیژن و زیرلایه ای با دمای 250 درجه سانتی گراد استفاده شده است. دستگاه پراش اشعه </span><span dir="LTR" style="font-weight:normal;">X</span><span style="font-weight:normal;"> (</span><span dir="LTR" style="font-weight:normal;">XRD</span><span style="font-weight:normal;">)</span><span style="font-weight:normal;"> فاز آناتاز را برای نمونه ها نشان داده است و توپوگرافی سطح با استفاده از میکروسکوپ نیروی اتمی (</span><span dir="LTR" style="font-weight:normal;">AFM</span><span style="font-weight:normal;">) مورد بررسی قرار گرفته است. سپس سیستم به حالت پلاسمای </span><span dir="LTR" style="font-weight:normal;">RF</span><span style="font-weight:normal;"> تغییر داده شده و اثر بهبود بخشی پلاسمایی پلاسمای ترکیبی</span><span dir="LTR" style="font-weight:normal;">N₂+O₂</span> <span style="font-weight:normal;">بر کاهش غلظت رنگ متیلن بلو در حضور لایه های نازک </span><span dir="LTR" style="font-weight:normal;">TiO₂</span><span style="font-weight:normal;"> مورد ارزیابی قرار گرفته است. میزان درصد حذف رنگ </span><span dir="LTR" style="font-weight:normal;">(R%</span><span dir="LTR" style="font-weight:normal;">)</span><span style="font-weight:normal;"> و ثابت سرعت واکنش تخریب </span><span dir="LTR" style="font-weight:normal;">(k</span><span dir="LTR" style="font-weight:normal;">)</span><span style="font-weight:normal;"> محاسبه شده است.</span></span></span></div> Titanium dioxide thin films with a thickness of 280 nm were deposited using pulsed DC magnetron reactive sputtering,on glass substrates. In order to deposit a Ti source in an Ar+O₂ gas mixture was used with a substrate of temperature 250⁰c.The X-ray diffraction (XRD) showed anatase phases and Topographical surface using atomic force microscopy (AFM) is studied. Then RF plasma system was changed and treatment effect of N2 + O2 mixture plasma on the reduction concentration of methylene blue dye in the presence of TiO2 thin films evaluated. Finally, the color removal rate (R%) and also degradation reaction rate constant (k) is calculated.characterized.<br> &nbsp; بهبود بخشی پلاسمایی, دی اکسید تیتانیوم , فوتو کاتالیست Plasmatreatment, TiO2, photocatalyst 45 55 http://ijcse.ir/browse.php?a_code=A-10-343-2&slc_lang=fa&sid=1 مریم جامعی 10031947532846003159 10031947532846003159 No آزاده حقیقت زاده ahaghighatzadeh@yahoo.com 10031947532846003160 10031947532846003160 Yes بابک مزینانی b.mazinani@gmail.com 10031947532846003161 10031947532846003161 No