fa بررسی تاثیر دمای بازپخت روی چگالی اپتیکی، توپوگرافی و خواص ساختاری سطح لایه های اکسید روی و اکسید روی تزریق شده با آلومینیوم كاشي، چيني، لعاب، رنگدانه و جوهر Tile, Porcelain, Glaze, Pigment and Ink پژوهشي Research <div style="text-align: justify;"><span style="font-size:12px;"><span style="font-family:Tahoma;">لایه های مختلف اکسید روی و اکسید روی تزریق شده با آلومینیوم با استفاده از روش کندوپاش مغناطیسی با فرکانس رادیویی در دمای اتاق بر روی لایه های شیشه ای ساخته شدند<span dir="LTR">.</span> لایه ها در یک کوره الکتریکی با حضور گاز آرگون در سه دمای مختلف 400، 500 و 600 درجه سانتی بازپخت شدند. مقدار چگالی اپتیکی اکسید روی نسبت به اکسید روی تزریق شده با آلومینیوم بیشتر است. مقادیر اندازه عرضی نانو ذرات برای لایه های اکسید روی با افزایش دمای بازپخت، افزایش یافتند.&nbsp; لایه های اکسید روی بازپخت شده در دمای 400 درجه سانتی گراد دارای کمترین مقدار اندازه عرضی نانو ذرات در حدود 59/22 نانومتر هستند. لایه های اکسید روی تزریق شده با آلومینیوم و بازپخت شده در دمای 600 درجه سانتی گراد دارای بیشترین مقدار اندازه عرضی نانو ذرات در حدود 41/34 نانومتر هستند. تغییرات ارتفاع سطح روبش شده لایه ها نشان دادند که لایه &nbsp;اکسید روی در دمای اتاق دارای یک جهش تند 25 نانومتر می باشد. همچنین لایه اکسید روی تزریق شده با آلومینیوم در دمای 600 درجه سانتی گراد دارای فراز و نشیب کمتری نسبت به بقیه دماها دارا می باشد و ارتفاع حول 6 نانومتر است.<span style="color:black;"> باافزایش</span> <span style="color:black;">دمای بازپخت مقادیر</span> <span style="color:black;">ابعاد</span> <span style="color:black;">فراکتالی </span><span style="color:black;">لایه های اکسید روی </span><span style="color:black;">کاهش</span> <span style="color:black;">می</span> <span style="color:black;">یابد. </span><span style="font-family:Arial,sans-serif;"></span></span></span></div> The ZnO films and ZnO films doped with Al were deposited on glass substrates by radio frequency magnetron sputtering at room temperature. Films were annealed in an electrical furnace with Ar atmosphere at three different temperatures 400, 500, and 600 ^oC. The values of optical density of ZnO films were greater than respect to ZnO films doped with Al. With increasing annealing temperature, the lateral size values of nanoparticles for ZnO films were increased. The ZnO films annealed at 400 ⁰C have minimum value of the nanoparticles lateral size in about of 22.59 nm.&nbsp; The ZnO films doped with Al and annealed at 600 ⁰C have maximum value of the nanoparticles lateral size in about of 22.59 nm.&nbsp; Changes in the height of the scanned surface of the layers indicated that the zinc oxide film has a sharp jump of 25nm at room temperature. Also, the ZnO films doped with aluminum at 600 &deg;C have less ups and downs than other temperatures and the height is around 6 nm. With increasing the annealing temperature, the fractal dimensions&rsquo; values of the zinc oxide films were decreased. <span dir="RTL"></span> ابعاد فراکتال, خواص ساختاری, اندازه عرضی نانو ذرات, توپوگرافی سطح لایه ها, چگالی اپتیکی, منطقه تحمل fractal dimension, structural properties, lateral size, optical density, bearing area. 59 70 http://ijcse.ir/browse.php?a_code=A-10-218-8&slc_lang=fa&sid=1 ولی دلوجی Dalouji@yahoo.com 10031947532846002781 10031947532846002781 Yes نسیم رحیمی 10031947532846002782 10031947532846002782 No سحر رضایی 10031947532846002783 10031947532846002783 No علیرضا سوری 10031947532846002784 10031947532846002784 No