دوره 11، شماره 2 - ( تابستان 1401 )                   جلد 11 شماره 2 صفحات 69-58 | برگشت به فهرست نسخه ها

‎ 20.1001.1.23222352.1401.11.0.1.1

XML English Abstract Print

Download citation:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:
sarvari M, hosseini S H, Ebrahimi Fordoei M, mersagh dezfuli S. Effect of bias voltage on structural and mechanical characteristics of diamond-like carbon thin film applied by ion beam deposition. Iranian Journal of Ceramic Science & Engineering 2022; 11 (2) :58-69
URL: http://ijcse.ir/article-1-834-fa.html
سروری مسعود، حسینی سید حجت اله، ابراهیمی فردوئی محمدرضا، مرساق دزفولی سعید. بررسی اثر ولتاژ بایاس بر مشخصه‌های ساختاری و مکانیکی لایه نازک کربن شبه الماس اعمال شده توسط فرایند رسوب‌دهی پرتو یونی. علم و مهندسی سرامیک. 1401; 11 (2) :58-69

URL: http://ijcse.ir/article-1-834-fa.html

بررسی اثر ولتاژ بایاس بر مشخصه‌های ساختاری و مکانیکی لایه نازک کربن شبه الماس اعمال شده توسط فرایند رسوب‌دهی پرتو یونی
مسعود سروری1 ، سید حجت اله حسینی* 2، محمدرضا ابراهیمی فردوئی1 ، سعید مرساق دزفولی1
1- دانشگاه صنعتی مالک اشتر
2- دانشگاه صنعتی مالک اشتر ، nnshosseini@mut.ac.ir
چکیده:   (1254 مشاهده)
در این پژوهش اثر ولتاژ بایاس بر تغییرات ساختاری لایه نازک کربن شبه ­الماس  ایجاد شده توسط فرایند رسوب­­دهی پرتو یونی مورد بررسی قرار گرفته ­است. برای این منظور، پارامتر ولتاژ بایاس در مقادیر­ V0، V50- ، V100- و V150- روی زیرلایه آلیاژ آلومینیوم AA5083  در نظر گرفته شد. جهت ارزیابی تغییرات ساختاری از طیف­سنجی رامان استفاده شد. همچنین جهت تاثیر ولتاژ بایاس بر ضخامت و زبری سطح پوشش­های اعمالی، از میکروسکوپ نیروی اتمی (AFM) و میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدانی (FESEM) نیز استفاده گردید. سختی و مدول الاستیک توسط آزمون نانوسختی­سنجی اندازه­گیری شد. نتایج آنالیز رامان نشان­دهنده بیش­ترین میزان پیوندهای sp3 در لایه نازک کربن شبه الماس در ولتاژ بایاس V50- بود و با افزایش ولتاژ بایاس، مقدار پیوندهای  sp3 کاهش پیدا کرد.  نتایج آنالیز AFM گویای کم­ترین میزان زبری سطح لایه (nm 10) در ولتاژ بایاس V50- بود.  با توجه به این که میزان پیوندهای sp3 در ولتاژ بایاس V50- در حداکثر مقدار خود قرار داشت، سختی در این مقدار ولتاژ بایاس نیز نسبت به ولتاژهای دیگر بالاتر و برابر GPa 1/14بود.


 
واژه‌های کلیدی: کربن شبه ‌الماس، ولتاژ بایاس، رسوب‌دهی پرتو یونی، آلیاژ آلومینیوم AA5083
متن کامل [PDF 757 kb]   (145 دریافت)    
نوع مطالعه: پژوهشي | موضوع مقاله: سراميک‌هاي زیستی (بیوسرامیک‌ها)
دریافت: 1400/11/17 | پذیرش: 1401/4/4
ارسال نظر درباره این مقاله : نام کاربری یا پست الکترونیک شما:
CAPTCHA
ارسال پیام به نویسنده مسئول

بازنشر اطلاعات
Creative Commons License این مقاله تحت شرایط Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License قابل بازنشر است.