|
تهیه پوشش نیمه رسانا از نانوورقه‌های گرافن سنتز شده با لیزر
|
| هاجر قنبری، رسول صراف ماموری ، جمشید صباغ زاده، رسول ملک فر |
|
|
|
چکیده: (4918 مشاهده) |
| بهره‌گیری از رسانایی بالای لایه های نازک، یکی از مهم‌ترین اهداف پروژه‌ها در حوزه کاربرد خواص الکترونیکی مواد گرافن‌دار می باشد. نانوورقه‌های گرافن، صفحه‌های موازی متشکل از چندین لایه گرافن با ضخامت کمتر از 100 nm هستند. در این کار ابتدا مستقیماً نانوورقه‌های گرافن سنتز شده با لیزر با کمک پراکنده ساز تجاری DEKAMOL PES، در یک محیط آبی پراکنده شدند که نتیجه آن تشکیل سلی پایدار بود. در این مرحله سل فوق روی لامل پوشش داده شد و رسانایی آنها با دستگاه Kithley I-V meter بررسی گردید. جهت بررسی ساختاری لایه‌ها از میکروسکوپ نوری و میکروسکوپ الکترونی روبشی و برای بررسی سل از میکروسکوپ الکترونی عبوری و پراش اشعه X استفاده شد. تصاویر میکروسکوپ الکترونی عبوری نشان داد که نانوورقه‌ها نسبتاً خوب پراکنده شده‌اند و ضخامت آنها کمتر از 5 نانومتر می‌باشد. الگوی پراش الکترونی نیز حضور تک بلورهای گرافنی را تایید نمود. بررسی لایه‌ها نشان داد که در شرایط پوشش دهی با استفاده از قطرات با اندازه 3cm1/0 و سرعت پوشش‌دهی چرخشی بالاتر از rpm400-300، تشکیل لایه یکنواخت رسانا ممکن نیست، درحالی‌که با کاهش سرعت، افزایش میزان اتصالات و البته ضخامت لایه، در ازای کاهش یکنواختی، مقاومت از حدود 109Ω به Ω 105کاهش می‌یابد. |
|
| واژه‌های کلیدی: نانوورقه‌های گرافن، PES DEKAMOL، مقاومت الکتریکی، LP-PLA، پوشش‌دهی چرخشی |
|
|
متن کامل [PDF 2211 kb]
(1757 دریافت)
|
نوع مطالعه: پژوهشي |
موضوع مقاله:
عمومى
دریافت: ۱۳۹۲/۷/۲۰
|
|
|
|
|
|
|
| ارسال نظر درباره این مقاله |
|
|
|
